设为首页
收藏本站
开启辅助访问
切换到宽版
快捷导航
登录
立即注册
快速发布信息
搜索
搜索
首页
Portal
社区
BBS
签到
本版
文章
帖子
用户
果果一线
»
社区
›
IT
›
实时快报
›
售价4亿美元的光刻机,英特尔又买了一台
返回列表
发新帖
售价4亿美元的光刻机,英特尔又买了一台
[复制链接]
31
|
1
|
2024-8-6 12:00:11
|
发表时间:2024-8-6 12:00:11
|
显示全部楼层
|
阅读模式
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~
来源:内容来自半导体行业观察(ID:icbank)综合,谢谢。
根据该公司 8 月 1 日财报电话会议记录,英特尔首席执行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 表示,该公司将斥资 3.5 亿欧元(3.83 亿美元)购买新的“Hihg NA”EUV 工具。
英特尔于 12 月份开始接收第一台大型机器,这些机器需要数月时间才能安装完成,预计将为新一代更强大的计算机芯片提供支持。
基辛格在电话会议上表示:“第二台 High NA 工具即将进入我们位于俄勒冈州的工厂”,并补充说,该公司的技术投资“显示出良好的早期指标”。
在因担心英特尔扭亏为盈前景而导致其股价大幅下滑之际,此番言论并未引发关注。
作为计算机芯片制造商最大的设备供应商,ASML 拒绝对具体客户采购情况发表评论。
ASML 的高管于 7 月 17 日表示,该公司已开始向一位未透露姓名的客户出货第二台高数值孔径光刻机,今年将只实现第一台、可能还有第二台光刻机的收入。
成功引入高数值孔径是 ASML 作为欧洲最大科技公司未来发展的关键,但对于客户何时会采用它仍存在一些疑问。
英特尔计划到 2027 年将该技术用于商业生产。为 Nvidia 和 Apple 生产芯片的台积电今年将收到一套工具,但尚未透露何时将其用于生产。
ASML 首席执行官 Christophe Fouquet 7 月 17 日表示,DRAM 内存芯片制造商(即三星、SK 海力士或美光)可能会在 2025 年或 2026 年开始使用High NA。
曝光机大厂ASML 于imec 的ITF World 2024 宣布,首款High-NA EUV 曝光机创造晶圆制造速度纪录,比两个月前纪录更快。
ASML 前总裁兼技术长Martin van den Brink 说,新High-NA EUV 晶圆生产速度达每小时400~500 片,比标准EUV 的200 片快2~2.5 倍。ASML 已在开发Hyper-NA EUV,扩展High-NA EUV 共享潜在蓝图。透过High-NA EUV 加速,不但提升产能还降低成本。
经进一步调整,ASML 已用实验机列印生产8 纳米线宽,是EUV 的新纪录,打破4 月纪录。当时ASML 荷兰总部与imec 联合实验室的实验版High-NA EUV 列印10 纳米线宽。就发展路径看来,ASML 标准EUV 可列印13.5 纳米线宽,新High-NA EUV 可列印8 纳米线宽,ASML 证明可满足基本规格。
Martin van den Brink 强调,ASML 取得进展,整个列印线宽作业至8 纳米纪录并校正,还有一定程度重叠覆盖。ASML 对High NA EUV 充满信心,能再突破极限。除了ASML 自己测试High NA EUV,拥有High NA EUV 的英特尔也在美国俄勒冈州D1X 厂测试,预定以Intel 18A 制程研发与训练,之后量产Intel 14A 制程。
韩媒传出,英特尔已包下荷商(ASML新型High-NA EUV(高数值孔径极紫外光)微影设备直到明(2025)年上半为止的多数供应量。
TheElec 8日引述未具名消息人士报导,ASML今年准备制造5台High-NA EUV微影设备。由于这种设备每年只能生产约5~6台,代表第一批将全数出货给英特尔。
英特尔竞争对手三星电子(Samsung Electronics)、SK海力士(SK Hynix)预料要等到明年下半才能取得上述设备。
对想要打造2纳米芯片的业者来说,High-NA EUV微影设备不可或缺。
台积电甫于4月24日宣布,全新的「A16」制程将于后(2026)年下半年投产,且这项制程并不需用到ASML的High-NA EUV微影设备。
台积电高层当时在加州圣塔克拉拉(Santa Clara)举行的会议表示,AI芯片制造商很可能是第一批采纳A16的客户、而非智能手机制造商。台积电重要客户包括英伟达、苹果(Apple Inc.)。
据路透报导,最新发表的技术让分析师开始质疑,英特尔能否真如2月宣称的那样,可用旗下「14A」制程取代台积电,打造全世界运算速度最快的芯片。TechInsights副董事长Dan Hutcheson表示,英特尔的说法有争议,“在某些面向,我不认为他们已经领先对手。”
ASML 今年将向台积电交付新一代光刻机
据彭博社之前报道,ASML 年将向台湾半导体制造公司运送其最新的芯片制造机。
据公司发言人 Monique Mols 称,ASML 首席财务官 Roger Dassen 在最近的一次电话会议上告诉分析师,ASML 最大的两个客户台积电和英特尔公司将在今年年底前获得所谓的高 NA 极紫外机器。
ASML 的新机器可以在半导体上刻印仅 8 纳米厚的线条——比上一代小 1.7 倍——并将用于生产为人工智能应用和先进消费电子产品提供动力的芯片。
台积电对机器的价格表示担忧。台积电高级副总裁Kevin Zhang 5 月在阿姆斯特丹表示:“我喜欢高 NA EUV 的功能,但我不喜欢标价。” 他说,台积电所谓的 A16 节点技术将于 2026 年底推出,不需要使用 ASML 的High NA EUV 机器,可以继续依赖台积电较旧的极紫外设备。
尽管如此,台积电一直是 ASML 高 NA EUV 项目的积极参与者。包括 Janardan Menon 在内的 Jefferies 分析师表示,他们预计台积电将在 2028 年的 A14 节点上使用高 NA。分析师在与 Dassen 的电话会议后表示,ASML 仍然认为 2025 年的收入可能处于指导范围的上半部分。
Jefferies 分析师表示,ASML 今年剩余三个季度的平均订单量可能约为 57 亿欧元,从而将 2025 年的销售额推高至 400 亿欧元。
点这里加关注,锁定更多原创内容
*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。
今天是《半导体行业观察》为您分享的第3849内容,欢迎关注。
『半导体第一垂直媒体』
实时 专业 原创 深度
公众号ID:icbank
喜欢我们的内容就点
“在看”
分享给小伙伴哦
回复
使用道具
举报
凡果果
|
2024-8-6 14:05:28
|
显示全部楼层
这个观点很新颖,值得一试。
回复
支持
反对
使用道具
举报
返回列表
发新帖
高级模式
B
Color
Image
Link
Quote
Code
Smilies
您需要登录后才可以回帖
登录
|
立即注册
本版积分规则
发表回复
回帖并转播
回帖后跳转到最后一页
心灵咖啡
21
主题
34
帖子
34
积分
新手上路
新手上路, 积分 34, 距离下一级还需 16 积分
新手上路, 积分 34, 距离下一级还需 16 积分
积分
34
收听TA
发消息
回复楼主
返回列表
科技报道
实时快报
业界报道
大佬快评
热门排行
1
国外大神怒喷《龙腾世纪4》 Qunari族丑到飞起
2
北京唯源立康生物科技股份有限公司申请I类会议
3
一力制药(南宁)有限公司申请II类会议
4
iPhone 16 系列初期销量低于预期新线索,郭明錤称苹果已开放员工购买通道
5
浙江稠州商业银行绍兴分行获批厉剑任职资格
6
美诚月饼辟谣原价59元三盒
7
OPPO两款磁吸充电宝曝光!将和Find X8系列一同发布
8
南京仁杉门诊部闭店,风评饱受诟病的南京同仁医院拿什么兜底?